Dokument: Experimente zur Erzeugung von Pinchplasmen hoher Energiedichte alsStrahlungsquellen in Kompaktanlagen

Titel:Experimente zur Erzeugung von Pinchplasmen hoher Energiedichte alsStrahlungsquellen in Kompaktanlagen
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URN (NBN):urn:nbn:de:hbz:061-20010131-000059-3
Kollektion:Dissertationen
Sprache:Deutsch
Dokumententyp:Wissenschaftliche Abschlussarbeiten » Dissertation
Medientyp:Text
Autor: Raacke, Jens [Autor]
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Dateien vom 09.02.2007 / geändert 09.02.2007
Beitragende:Prof. Dr. Kies, Walter [Gutachter]
Prof. Dr. Reiter, Detlev [Gutachter]
Stichwörter:z-Pinch, Fokus, Schichtbildung, Strahlungsquelle, Konditionierung,Vorpuls, Plasma, Plasmaschicht
Dewey Dezimal-Klassifikation:500 Naturwissenschaften und Mathematik » 530 Physik
Beschreibung:Strahlungsquellen für den Wellenlängenbereich des XUV (1-10nm) bzw.
SXR (0.1-1nm) sind in Forschung und Industrie vielseitig einsetzbar.
Pinchplasmen stellen eine mögliche Alternative zu Synchrotrons und
laserproduzierten Plasmen dar. In dieser Arbeit wurden die
Eigenschaften der an den Treibern SPEED3 und SPEED4 erzeugten
Pinch-Plasmen untersucht und optimiert, sowie die dazu erforderliche
Steuerelektronik und Diagnostik entwickelt. Die Reproduzierbarkeit
der Entladungen in z-Pinch-Geometrie und die Parameter der
Pinchplasmen, die für die Strahlungsemission entscheidend sind,
konnten deutlich verbessert werden. Dazu wurde der Einfluß der
Isolatorkonditionierung genauer untersucht und festgestellt, daß
diese auf einem Erosions/Depositions-Gleichgewicht von
Kupferkristalliten auf der Isolatoroberfläche beruht. Die
Konditionierung wird während effizienter Entladungen vom Plasma
selbst aufgebaut. Künstliche Beschichtungen werden rasch erodiert
und führen nicht zur Konditionierung.

Hingegen eignen sich stromstarke Vorentladungen kurz vor der
Hauptentladung besonders zum raschen Aufbau und Erhalt der
Konditionierung. Die Reproduzierbarkeit der effizienten Pinchbildung
stieg dadurch drastisch an. Im Gegensatz zu Entladungen in
Wasserstoff oder Deuterium stellte sich der Betrieb mit schwerem Gas
(z.B. Neon, Argon) jedoch als problematisch heraus. Der Zusatz von
mehr als 1% Schwergas zum Arbeitsgas behindert die Schichtbildung
derart, daß die Pincheffizienz stark vermindert wird. Die in
Pinchnähe befindliche Isolatoroberfläche sowie die verkürzte
Laufphase der Schicht stören die Schicht- und Pinchbildung zusätzlich
bzw. erschweren die Anpassung des Treibers. So findet die maximale
Kompression deutlich vor dem Strommaximum statt, was zu
verschlechterter Pinchbildung und erniedrigter Elektronentemperatur
führt.
Lizenz:In Copyright
Urheberrechtsschutz
Fachbereich / Einrichtung:Mathematisch- Naturwissenschaftliche Fakultät » WE Physik
Dokument erstellt am:31.01.2001
Dateien geändert am:12.02.2007
Promotionsantrag am:31.01.2001
Datum der Promotion:31.01.2001
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